furnace是什么意思_furnace用法_furnace怎么读_furnace翻译_furnace含义

1. 炉管在半导体中的应用？
2. 真空炉分压原理？

炉管在半导体中的应用？

炉管（furnace）半导体制程中广泛的应用炉管：炉管的内层会套入一个透明的石英管，石英管外圈是电阻式加热线圈环绕，石棉隔热，最外层为不锈钢。管内有三个热电偶，分别测量前、中，后三个区域的温度。

气体输送装置：由手动阀、微粒过滤器、压力调节器、气动阀、流量控制器等组成。

炉管（furnace）半导体制程中广泛的应用于diffusion、drive-in、oxidation、deposition，annealing和sintering制程。设备分为水平式和垂直式两种。

水平式炉管，wafer放置在石英晶舟（Quartz Boat）上，且石英晶舟又放在SiC做的承载架（paddle）上，且前后会有适应挡板。

承载架推进石英炉管中，wafer在恒温区进行反应。结束后wafer也会缓慢拉出，避免馆内外温度差造成wafer弯曲or破裂。

垂直式炉管，wafer在石英塔架上，然后缓慢上升到石英炉管内进行制程，反应晚也需要缓慢降下，防止弯曲or破裂。

真空炉分压原理？

真空炉(vacuum furnace)是真空环境中进行加热的设备。在金属罩壳或石英玻璃罩密封的炉膛中用管道与高真空泵系统联接。炉膛真空度可达133×(10-2～10-4)h。炉内加热系统可直接用电阻炉丝(如钨丝)通电加热，也可用高频感应加热。高温度可达3000℃左右。

在真空加热炉中，为了防止工件的高蒸汽压金属元素在真空加热阶段挥发，一般都会采用通入惰性气体提高总炉压，传统真空加热炉采用针阀加电磁阀通断、以及罗茨泵的变频实现压力调整，这种做法使得真空炉内炉压波动大，分压调整的范围受针阀的开启量影响，不能实现大范围、精准的分压控制。